主要参数：

TEM点分辨率：0.23 nm；TEM条纹分辨率：0.1 nm；STEM-HAADF分辨率：0.16 nm；BEI分辨率：1.0 nm；加速电压： 80、200 kV

仪器应用：

TEM模式：

1、明场像（形貌像）：可获得材料样品的形态和内部微细结构特征。

2、相位衬度像（高分辨像）：可获得晶体的一维晶格条纹像、二维晶格点阵像和原子结构像。

3、电子衍射花样：可获得晶体不同取向的电子衍射花样。

4、衍射暗场像：用衍射电子成像，研究晶体结构特征。

5、X射线能谱：可在无标样条件下对试样微小区域的成分做定性和相对定量分析。

STEM模式：

1、扫描透射明场像（STEM-BF）：图像效果与明场像（TEM-BF）类似。

2、HAADF（高角环形暗场像）：用大角度弹性散射电子成像。图像衬度与原子序数、样品厚度正相关，称为Z衬度。

3、EDS mapping：与STEM图像同步表征试样中各元素的位置分布和含量。

4、BEI图像：采集二次电子和背散射电子信号，获得样品表面形貌和元素信息。

制样要求：

1、对于粉末和液体样品，可直接超声分散后滴加在载网上；

2、块体和薄膜样品，需要事先包埋切片或FIB加工。

应用举例：

纳米材料HRTEM和STEM分析

EDS mapping 分析PtNi合金纳米颗粒中Ni偏析现象