主要参数：
分析室极限真空：5×10-10 mbar;
单色X-射线源：Al kα 150 W, 束斑500 μm;
能量分辨率和灵敏度：Aɡ3d5/2峰半高宽为0.6 eV时强度大于1,600,000 cps;
UPS:灵敏度1,000,000 cps,能量分辨率100 meV@ Aɡ费米边。
仪器应用：
XPS在超高真空条件下通过用单色X射线照射样品材料并测量从材料表面（0-10 nm）经光电效应出射的光电子的能量和空间分布进而获取和分析材料中存在的元素构成、经验式、以及元素的化学态和电子态。
XPS是定量表面分析谱学技术，可检测除氢和氦以外的所有元素，检测限1-0.1 at%。适用于分析无机化合物、金属合金、半导体、聚合物、陶瓷、催化剂、玻璃、纸张、纺织品、等固体材料。样品形态包括块状、薄膜、粉末、纤维等，具有广泛的样品适用性。
样品要求：
1. 不能被测试的样品种类：
放射性样品；剧毒性样品；具有强磁性的样品；在制样过程中容易快速潮解的样品。
2. 粉末样品：必须干燥，粉末越细越好，样品用量几到几十毫克。
3. 块状样品：厚度<2 mm,长*宽<5*5 mm
4. 送样要求：
（1）所有样品在送样前必须进行干燥；
（2）样品中不得含有乙酸乙酯、氯仿、二氯甲烷、苯、环己烷、DMSO等有机溶剂；
（3）易被氧化的样品在送样过程中应注意隔绝空气；
（4）对薄膜、片状、块状样品标记出测试面。
