中文名:高分辨薄膜X射线衍射仪
英文名:High-Resolution X-ray Diffractometer for Thin Films
所属机组:X射线衍射(XRD)
仪器型号:X `Pert3 MRD
房间:120
负责人:高关胤,tel:0551-63603975,email:ggy@ustc.edu.cn
负责人:姚震宇,tel:0551-63602810,email:yaozy@ustc.edu.cn
负责人:
负责人:

主要参数:

X射线光源: Cu靶,陶瓷X光管;

电流电压:电压40 kV,电流40 mA

测角仪:卧式测角仪,测角仪半径320 mm,角度重现性达±0.0001o,最小步长为0.0001o

样品台:五轴样品台(xyzphichi

探测器:Pixcel3D探测器,灵敏度高,分辨率高,测试速度快。

其他模块:Cu平行光反射镜,hybrid双晶平行光单色器,Ge(220)四晶单色器,平板准直器

 

仪器应用:

高分辨X射线衍射仪是半导体材料表征的标准装备,常用于材料科学和纳米技术、半导体材料和器件等的研究和生产质量控制。

  

本仪器适用于各种薄膜样品的测试应用,尤其适合外延薄膜和单晶晶圆的结构分析和表征。具体可以测试的内容如下(不限于):

1. 摇摆曲线分析(omega-2theta, rocking curve

2. 倒易空间图(Reciprocal Space Mapping

3. 外延关系判定(Phi-scan

4. 反射率(XRR)

5. 掠入射表面深度分析(GIXRD)

6. 透射X射线衍射

7. 残余应力(Residual stress)

8. 织构分析(texture)

9. 粉末和块材物相鉴定(Phase analysis)

10. 小角X射线衍射(Small angle XRD

11. 二维X射线衍射(2D XRD

涉及样品种类包括(不限于)半导体晶圆、单晶、薄膜、药品、金属、纳米材料、

有机材料、矿石等。另外,我们也可根据用户需求提供适合客户的定制化服务。

  

制样要求:

1.     单晶薄膜样品:样品尺寸不小于5 mm×5 mm见方。需标明基片材料和晶面取向

2.     多晶/涂层薄膜:样品测试面需要洁净平整,尺寸不小于1 cm见方,厚度不大于10 mm

3.     粉末样品:样品需要在空气中稳定存在,需经过充分研磨,研磨后粒径不大于200目,样品量不小于1 g

4.     块状样品:样品测试面需要洁净平整,尺寸不小于1 cm见方,厚度不大于10 mm,也可以是板状、片状、带状样品。

5.     特殊样品(如易氧化、易潮解、有毒、放射性等)需注明处理和保存的具体要求,并提前联系测试人员。

 

HRXRD-MRD应用举例.docx